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水基清洗劑在軍工領(lǐng)域的清洗干凈度要求和軍工清洗標(biāo)準(zhǔn)的詳細(xì)技術(shù)規(guī)范及實(shí)施要點(diǎn)

合明科技 ?? 1742 Tags:軍工清洗標(biāo)準(zhǔn)水基清洗

水基清洗劑在軍工領(lǐng)域的清洗干凈度要求極為嚴(yán)格,需符合多項(xiàng)國(guó)家級(jí)軍用標(biāo)準(zhǔn)。以下是軍工清洗標(biāo)準(zhǔn)的詳細(xì)技術(shù)規(guī)范及實(shí)施要點(diǎn):

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一、核心軍工標(biāo)準(zhǔn)體系

  1. 中國(guó)國(guó)軍標(biāo)(GJB)

    • GJB 150.26A-2009:規(guī)定軍用設(shè)備表面污染物限值(離子殘留≤1.0μg/cm2,非揮發(fā)性殘留≤3mg/m2)

    • GJB 548B-2005:微電子器件清洗要求(顆粒尺寸>5μm的污染物數(shù)量≤30個(gè)/cm2)

  2. 美國(guó)軍用標(biāo)準(zhǔn)(MIL)

    • MIL-STD-883H Method 2002:電子元件清洗驗(yàn)證(表面絕緣電阻≥1×1011Ω)

    • MIL-PRF-32239:航空航天液壓系統(tǒng)清潔度(NAS 1638 Class 6級(jí))

  3. 北約標(biāo)準(zhǔn)(STANAG)

    • STANAG 4370:彈藥系統(tǒng)清洗規(guī)范(氯離子殘留<0.5ppm)


二、關(guān)鍵性能指標(biāo)

檢測(cè)項(xiàng)目軍工標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試方法
離子污染度等效NaCl殘留量≤0.75μg/cm2IPC-TM-650 2.3.25離子色譜法
表面絕緣電阻清洗后≥1×1012Ω(DC 100V)MIL-STD-202G Method 302
顆粒度分析>25μm顆粒數(shù)≤5個(gè)/0.1m2ISO 4406:2021
非揮發(fā)殘留物<1.0mg/dm2(沸水萃取法)ASTM D4940
生物兼容性細(xì)胞毒性≤1級(jí)(ISO 10993-5)浸提液培養(yǎng)法

三、工藝流程控制要點(diǎn)

  1. 清洗參數(shù)窗口

    • 溫度控制:50±2℃(電子器件)/75±3℃(機(jī)械部件)

    • 超聲波功率:0.5-1.5W/cm2(頻率40kHz±5%)

    • 漂洗次數(shù):≥3次逆流漂洗(電導(dǎo)率梯度<5μS/cm/次)

  2. 檢測(cè)設(shè)備要求

    • 使用ROSE測(cè)試儀(靈敏度0.1μg/cm2)

    • 配備激光粒子計(jì)數(shù)器(通道設(shè)置:0.5/5/15/25μm)

    • 恒溫恒濕測(cè)試室(23±1℃, 45±5%RH)


四、認(rèn)證實(shí)施流程

  1. 樣品制備

    • 按GJB 150.10A-2009制作標(biāo)準(zhǔn)污染試片(含松香焊劑、切削液等)

  2. 驗(yàn)證試驗(yàn)

    • 進(jìn)行72小時(shí)鹽霧試驗(yàn)(符合GJB 150.11A-2009)

    • 高低溫循環(huán)試驗(yàn)(-55℃~125℃,10次循環(huán))

  3. 文件準(zhǔn)備

    • MSDS符合GJB 2948A-2011要求

    • 提供16項(xiàng)重金屬檢測(cè)報(bào)告(As、Cd、Hg等)

五、質(zhì)量追溯要求

  1. 批次管理

    • 每批次留樣保存≥3年(溫度15-25℃)

    • 建立電子履歷(包含PH值、濃度等20項(xiàng)參數(shù))

  2. 過(guò)程監(jiān)控

    • 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溶液表面張力(保持≤30mN/m)

    • 每周檢測(cè)微生物含量(CFU/mL<100)

水基清洗的工藝和設(shè)備配置選擇對(duì)清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會(huì)作為一個(gè)長(zhǎng)期的使用和運(yùn)行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。

污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環(huán)境中的濕氣,通電后發(fā)生電化學(xué)遷移,形成樹(shù)枝狀結(jié)構(gòu)體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長(zhǎng)枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內(nèi)的浮點(diǎn)、灰塵、塵埃等,這些污染物會(huì)導(dǎo)致焊點(diǎn)質(zhì)量降低、焊接時(shí)焊點(diǎn)拉尖、產(chǎn)生氣孔、短路等等多種不良現(xiàn)象。

這么多污染物,到底哪些才是最備受關(guān)注的呢?助焊劑或錫膏普遍應(yīng)用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤(rùn)濕劑、樹(shù)脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質(zhì)在所有污染物中的占據(jù)主導(dǎo),從產(chǎn)品失效情況來(lái)而言,焊后殘余物是影響產(chǎn)品質(zhì)量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹(shù)脂殘留物易吸附灰塵或雜質(zhì)引發(fā)接觸電阻增大,嚴(yán)重者導(dǎo)致開(kāi)路失效,因此焊后必須進(jìn)行嚴(yán)格的清洗,才能保障電路板的質(zhì)量。

合明科技研發(fā)的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。

合明科技運(yùn)用自身原創(chuàng)的產(chǎn)品技術(shù),滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術(shù)要求,打破國(guó)外廠商在行業(yè)中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國(guó)產(chǎn)自主提供強(qiáng)有力的支持。

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